是一種用于處理半導(dǎo)體、液晶以及太陽(yáng)能等行業(yè)中蝕刻制程與化學(xué)氣相沉積制程中使用的特氣廢氣的設(shè)備
適用氣體：SiH4、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等
l 純水洗
l 等離子干式
l 等離子水洗
l 電加熱催化
l 電加熱催化水洗
l 電加熱干式
l 電加熱水洗
l 干式吸附(手動(dòng))
l 干式吸附(自動(dòng))
l 干式吸附雙桶(自動(dòng)）
在線(xiàn)咨詢(xún)
阿里旺旺
